Вакуумно-плазменная установка
Предназначена для нанесения износостойких покрытий на основе нитридов (TiN, CrN, TiCrN, TiAlN, AlTiSiN и др.) в виде однослойных или многослойных систем с заданным соотношением компонентов
Преимущества ионно-плазменного напыления PVD + ВТО- Получение слоя оксидов, нитридов, карбидов
- Получение покрытий толщиной до 10…15 мкм
- Получение многослойных покрытий с высокой адгезионной стойкостью
- Cистемы на основе вакуумно-дугового испарения материалов обеспечивают высокую скорость осаждения
- Адгезия покрытия к материалу подложки в 1,5...2 раза выше, чем при магнетронном нанесении покрытия
- Отсутствие скрытой пористости